拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司在北京、上海、海宁、沈阳和美国及日本成立子公司。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充（Flowable CVD）设备和先进键合(W2W / D2W Hybrid Bonding) 设备以及相关量测设备等系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、 先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 显示等高端技术领域。
公司产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的70多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。 公司已形成一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累，公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2022-2025)”。
公司已形成一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累，公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2019-2022)”。
公司总部坐落于沈阳市浑南区，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房，总建筑面积达40,000平方米，已投资近十亿建设上海二厂，同时投入十多亿筹建沈阳二厂。目前公司生产能力可以满足生产需求。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证，并拥有覆盖全球的供应商网络。
拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。
拓荆科技股份有限公司 （688072）成立于2010年4月28日，总部位于 辽宁省沈阳市 ，2022年4月20日在科创板上市，主营业务为高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。
2025年9月4日，拓荆科技股价下跌5.32%，当日收盘价为176.57元/股，总市值493.92亿元。交银施罗德基金旗下两只基金重仓持有该公司股票，合计持有5.93万股，当日浮亏约58.85万元。
营收：上半年实现营业收入19.54亿元，同比增长54.25%，其中第二季度单季营收达12.45亿元，环比增长75.74%。
净利润：归母净利润9428.80万元，同比下降26.96%；扣非净利润3800万元，同比增长91.35%。第二季度归母净利润2.41亿元，同比增长103.37%。
订单情况：合同负债达45.36亿元，同比增长52.07%，主要因订单增加。 34
公司已形成 PECVD 、 ALD 、 SACVD 等薄膜沉积设备产品，并拓展至三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备。其新型设备平台（如PF-300T Plus）已通过客户认证，逐步进入量产阶段。
当前股价波动可能受市场情绪、行业周期等因素影响，投资者需关注后续订单执行情况及成本控制能力
